半導體行業反滲透純水設備的特點表現在哪里？在半導體材料的生產和清洗工作中，需要使用反滲透超純水設備來進行超純水的制備，實現水質生產的絕緣接觸。半導體行業使用純水設備通常表現為水量小，標準高，工藝復雜等幾個方面。接下來我們就來解析一下半導體行業使用反滲透超純水設備的性能優勢。

1 水量不大

在集成電路、光伏發電、電子產品和通信領域之中，半導體材料大行其道，其中尤以單晶硅和多晶硅的應用廣泛，且研究至今，工藝逐漸成熟。在半導體生產過程中清洗金屬制品的時候，對于水量的要求通常在0.5噸/時-3噸/時不等。

2 出水標準高

超純水的定義是去除水中導電介質的水質，符合單晶硅生產的絕緣條件。對于單晶硅清洗的出水，通常規定為電阻率要達到18兆歐，自然水電導率高且在硬度、濁度、總大腸菌群等多種指標是遠遠無法達到出水標準的，為此需要用到超純水設備對原水進行處理。

3 工藝復雜

在食品加工行業或者化工行業，可能單極或者雙極反滲透設備就可以滿足條件。但是在半導體行業，雙級反滲透工藝也是遠遠不夠的，而是需要在雙級反滲透的基礎上加上edi連續電解除鹽裝置甚或拋光混床才可以。

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