0.5t/h純水機工藝流程是怎樣的呢？即使水量很小，0.5t/h純水機的工藝流程卻并不簡單，單級反滲透設備是基礎的純水配置，當行業對于水質電阻率有要求的時候，就需要加入edi連續電解除鹽技術，甚至拋光混床工藝。比如電子芯片生產制造的過程中，需要用到超純水機，其工藝流程如下：

原水箱——增壓泵——多介質過濾器——活性炭過濾器——阻垢加藥裝置——精密過濾器——高壓泵——一級反滲透——高壓泵——二級反滲透——edi裝置——拋光混床——出水

可以看得出來，電子芯片生產制造的過程當中，用到了少見的拋光混床工藝，這是為了提升水質電阻率達18兆歐，如果不用拋光混床工藝的話，水質電阻率只能達15兆歐。18兆歐的超純水在生產和清洗高精密度的芯片時，因為水中沒有導電介質，所以不會影響芯片的性能，也不會對芯片產生劃痕。

此外，Edi裝置對進水是有要求的，如果水質太差，是不可以直接進入edi裝置的。具體可參考的edi裝置進水條件包括電導率、壓力、硬度、溫度、有機物、余氯、鐵錳含量、二氧化碳和ph值等，而為了滿足這些條件，反滲透設備起到了很大的作用。

那么反滲透設備有哪些特點呢？反滲透設備的功能強大，可以去除水中大部分的膠體、細菌、微生物、有機物和溶解性固體等雜質，同時占地面積小、除鹽率高、連續運行、出水穩定。

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