電子光學用EDI超純水設備采用哪種原理?
眾所周知,對于電子光學行業,即集成電路芯片、電子試劑水、電子管涂層和LCD屏幕清洗水、光學透鏡清洗水、微電子行業和各種電子器件的生產水,這些都是生活中常用的半導體加工設備,對水質有很高的要求。在本文中,我們簡單了解下EDI超純水設備在光學設備中的簡單原理。
用于電子光學的EDI超純水設備采用集成電滲析技術和離子交換技術的連續電脫鹽技術。其工作原理是通過陰陽離子膜的選擇性滲透和離子交換樹脂對水中離子的交換,實現水中離子的定向遷移,來達到實現水的深度凈化和脫鹽。
離子交換樹可以通過水電解實現連續再生。水電解過程中產生的氫離子和羥基離子可以連續再生填充樹脂,在整個制水過程中不需要添加任何堿和酸化學品進行再生。
用于電子光學的EDI超純水設備的出水質量需要根據企業對不同行業用水電導率的要求,君浩環保采用兩級反滲透純化水處理技術+edi模塊化設計,可制取出18.2兆的超純水,其系統的自動化程度高、操作簡便、系統工藝先進且出水水質穩定。




