眾所周知，對(duì)于電子光學(xué)行業(yè)，即集成電路芯片、電子試劑水、電子管涂層和LCD屏幕清洗水、光學(xué)透鏡清洗水、微電子行業(yè)和各種電子器件的生產(chǎn)水，這些都是生活中常用的半導(dǎo)體加工設(shè)備，對(duì)水質(zhì)有很高的要求。在本文中，我們簡(jiǎn)單了解下EDI超純水設(shè)備在光學(xué)設(shè)備中的簡(jiǎn)單原理。

用于電子光學(xué)的EDI超純水設(shè)備采用集成電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)的連續(xù)電脫鹽技術(shù)。其工作原理是通過(guò)陰陽(yáng)離子膜的選擇性滲透和離子交換樹(shù)脂對(duì)水中離子的交換，實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移，來(lái)達(dá)到實(shí)現(xiàn)水的深度凈化和脫鹽。

離子交換樹(shù)可以通過(guò)水電解實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生。水電解過(guò)程中產(chǎn)生的氫離子和羥基離子可以連續(xù)再生填充樹(shù)脂，在整個(gè)制水過(guò)程中不需要添加任何堿和酸化學(xué)品進(jìn)行再生。

用于電子光學(xué)的EDI超純水設(shè)備的出水質(zhì)量需要根據(jù)企業(yè)對(duì)不同行業(yè)用水電導(dǎo)率的要求，君浩環(huán)保采用兩級(jí)反滲透純化水處理技術(shù)+edi模塊化設(shè)計(jì)，可制取出18.2兆的超純水，其系統(tǒng)的自動(dòng)化程度高、操作簡(jiǎn)便、系統(tǒng)工藝先進(jìn)且出水水質(zhì)穩(wěn)定。