如何對集成電路超純水設(shè)備的反滲透膜進行清洗？

在集成電路超純水設(shè)備中有很多的預(yù)處理措施，要處理的水都是經(jīng)過預(yù)處理后才到達反滲透膜，但是在長時間使用后還是產(chǎn)生沉積和結(jié)垢，使膜孔堵塞，產(chǎn)水量下降，因此對污染膜進行定期的清洗是必要的。那么怎樣對集成電路超純水設(shè)備的反滲透膜進行清洗呢？

一、清洗原則：

了解當(dāng)?shù)厮|(zhì)特征，對污染物進行化學(xué)分析，通過結(jié)果分析，來選擇清洗劑和清洗方法，為特定的給水條件下找出方法提供依據(jù)。

二、清洗條件：

1、產(chǎn)品水量比正常時下降5%-10%。

2、為保正產(chǎn)品水量，修正溫度后的供水壓力增加10%-15%。

3、透過集成電路超純水設(shè)備水質(zhì)電導(dǎo)率(含鹽量增加)增加5%-10%。

4、多段RO系統(tǒng)，通過不同段的壓降明顯增加。

三、清洗方法：

進行低壓清洗;有必要的情況下進行機械清洗;再進行化學(xué)清洗;有條件的可以超聲清洗;在線清洗是一種很好的方法，但價格比較貴。

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