一、半導體用去離子水設備工作原理

①　一般通過陽陰離子交換樹脂取得的去離子水，出水電導率可降到10us/cm以下，再經過混床就可以達到1us/cm以下了。但是這種方法做出來的水投入高，而且顆粒雜質太多，達不到理想的要求。目前已較少采用了。

②　預處理(即砂碳過濾器+精密過濾器)+反滲透+混床工藝這種方法是目前采用很多的，因為反滲透投資成本也不算高，可以去除90%已上的水中離子，剩下的離子再通過混床交換除去，這樣可使出水電導率：0.06左右。這是目前流行的方式。

③　前處理與第二種方法一樣使用反滲透，只是后面使用的混床采用EDI連續除鹽膜塊代替，這樣就不用酸堿再生樹脂，而是用電再生。保證過程無污染，經過去離子水設備處理后的水質可達到15M以上。但這這種方法的前期投資比較多，運行成本低。

二、半導體用去離子水設備處理過程

先通過石英砂過濾顆粒較粗的雜質，然后高壓通過反滲透膜，分離出溶劑與溶液。很后一般還要經過一步紫外殺菌以去除水中的微生物。假如此時電阻率還沒有達到要求的話，可以再進行一次離子交換過程，有時電阻率可達到18兆。半導體行業中用的大多數是高純度的去離子水。

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