反滲透設備在正常運行一段時間后，膜元件會受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染，當出現以下癥狀時，就需要進行物理或化學清洗了。

●在正常給水壓力下，產水量較正常值下降10～15%；

●反滲透設備產水水質下降10～15%，透鹽率增加10～15%；

●給水壓力增加10～15%；

●為維持正常的產水量，經溫度校正常值下降10～15%；

●系統各段之間壓差大大增加（可能沒有儀表檢測該參數）。

清洗反滲透設備單元系統時，一般采取如下六個步驟：

1、配制清洗液

將藥劑加入潔凈的水中，且配制用水須是除去硬度、無過度金屬和余氯的RO產品水或去離子水。溶液要完整的混和均勻，并且把溫度和PH調到所需要的值。

2、低流量輸入清洗液

先用清洗水泵混合一遍清洗液，預熱清洗液時應以低流量。然后以盡可能低的清洗液壓力置換元件內的原水，其壓力達到夠補充進水至濃水的壓力損失便可，即壓力須下降到不會明顯的滲透產水。反滲透設備低壓置換操作能夠很大限度的減低污垢再次沉淀到膜表面，視情況而定，排放部分濃水以免清洗液稀釋。

3、循環

當原水被置換掉后，濃水管路中就應該出現清洗液，讓清洗液循環回清洗水箱并使清洗液溫度恒定。

4、浸泡

停止清洗泵的運行，讓反滲透設備膜元件完全浸泡在清洗液中。有時元件浸泡1小時就可以了，但對于頑固的污染物，需要增加浸泡時間，如浸泡10～15小時或浸泡過夜。為了維持浸泡過程的溫度，可采用很低的循環流量。

5、高流量水泵循環

循環30～60分鐘以后，用高流量沖洗污染物。在高流量條件下，將會出現過高壓降的問題，反滲透設備單元件允許的壓降為１bar（15psi），對多元件壓力容器允許壓降為3、5bar（50psi），以先超出為限。

6、沖洗

用清潔水（除去硬度、無金屬離子如鐵和氯的RO產品水或去離子水）進行低壓沖洗，沖洗系統內的清洗液可以用預處理的合格產水，除非存在腐蝕問題。為了制止沉淀，低沖洗溫度為20℃。

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